چین از اولین دستگاه لیتوگرافی پرتوی الکترونی (e-beam) خود با نام «شی‌ژی» (Xizhi) رونمایی کرد. این دستگاه که در دانشگاه ژجیانگ توسعه یافته، گامی مهم در تلاش‌های این کشور برای دستیابی به خودکفایی در صنعت تراشه و عبور از تحریم‌های آمریکا محسوب می‌شود.
چین به دلیل تحریم‌های آمریکا و هلند از دسترسی به پیشرفته‌ترین دستگاه‌های لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) ساخت شرکت هلندی ASML محروم است؛ دستگاه‌هایی که برای تولید تراشه‌های زیر ۷ نانومتر ضروری هستند. اکنون به گزارش SCMP، چین از اولین دستگاه لیتوگرافی پیشرفته برای خودکفایی رونمایی کرده است.
دستگاه «شی‌ژی» با استفاده از یک پرتوی الکترونی متمرکز، الگوهای مدارهای الکترونیکی را با دقتی بسیار بالا روی ویفرهای سیلیکونی حک می‌کند. این فناوری قادر است خطوطی به باریکی ۸ نانومتر را با دقت موقعیت‌یابی ۰.۶ نانومتر ایجاد کند که با استانداردهای بین‌المللی مطابقت دارد. این دستگاه که نام خود را از یک خوشنویس مشهور چینی باستان گرفته، به‌طور قابل‌توجهی ارزان‌تر از نمونه‌های وارداتی مشابه است و می‌تواند بن‌بست ایجادشده برای مؤسسات تحقیقاتی در چین را بشکند.
بااین‌حال، یک محدودیت مهم وجود دارد: لیتوگرافی پرتوی الکترونی برخلاف فناوری‌های DUV و EUV، برای تولید انبوه تراشه مناسب نیست. سرعت پایین‌تر آن باعث می‌شود که این دستگاه بیشتر برای آزمایش، تحقیق‌وتوسعه و ساخت نمونه‌های اولیه کارآمد باشد تا تولید تجاری در مقیاس وسیع. بااین‌حال، این دستاورد به چین اجازه می‌دهد تا در طراحی و آزمایش تراشه‌های پیشرفته، وابستگی خود را به خارج کاهش دهد و چرخه نوآوری داخلی را تسریع کند.
رونمایی از «شی‌ژی» تنها بخشی از تلاش گسترده‌تر چین برای بومی‌سازی کامل زنجیره تأمین نیمه‌رسانا‌هاست. در همین راستا، گزارش‌های تأییدنشده حاکی از آن است که هواوی درحال آزمایش یک دستگاه EUV ساخت خود در کارخانه‌اش در دونگوان است و شاید تولید انبوه با این فناوری را در سال ۲۰۲۶ آغاز کند. اگر هواوی بتواند به فناوری ساخت دستگاه EUV دست یابد، این یک نقطه عطف تاریخی خواهد بود که می‌تواند موازنه قدرت را در صنعت جهانی تراشه به‌طور کامل تغییر دهد و به شرکت‌هایی مانند هواوی و SMIC اجازه دهد تا با غول‌های آمریکایی مانند اپل، کوالکام و انویدیا رقابت کنند.
